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8486201000 [类注] |
[章注] |
[子目注释] |
[详情]
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氧化、扩散、退火及其他热处理设备 制造半导体器件或集成电路用的 |
0:品牌类型|1:出口享惠情况|2:用途|3:功能|4:品牌（中文或外文名称）|5:型号|6:GTIN|7:CAS|8:其他 |
台 |
无 |
无 |
13% |
0% |
30% |
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8486202100 [类注] |
[章注] |
[子目注释] |
[详情]
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制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 化学气相沉积装置(CVD) |
0:品牌类型|1:出口享惠情况|2:用途|3:功能|4:品牌（中文或外文名称）|5:型号|6:GTIN|7:CAS|8:其他 |
台 |
无 |
无 |
13% |
0% |
30% |
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8486202200 [类注] |
[章注] |
[子目注释] |
[详情]
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制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 物理气相沉积装置(PVD) |
0:品牌类型|1:出口享惠情况|2:用途|3:功能|4:品牌（中文或外文名称）|5:型号|6:GTIN|7:CAS|8:其他 |
台 |
无 |
无 |
13% |
0% |
30% |
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8486202900 [类注] |
[章注] |
[子目注释] |
[详情]
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其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 |
0:品牌类型|1:出口享惠情况|2:用途|3:功能|4:品牌（中文或外文名称）|5:型号|6:GTIN|7:CAS|8:其他 |
台 |
无 |
无 |
13% |
0% |
30% |
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8486203110 [类注] |
[章注] |
[子目注释] |
[详情]
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制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（后道用） |
0:品牌类型|1:出口享惠情况|2:用途|3:功能|4:品牌（中文或外文名称）|5:型号|6:GTIN|7:CAS|8:其他 |
台 |
无 |
无 |
13% |
0% |
100% |
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8486203120 [类注] |
[章注] |
[子目注释] |
[详情]
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制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用 I 线光刻机） |
0:品牌类型|1:出口享惠情况|2:用途|3:功能|4:品牌（中文或外文名称）|5:型号|6:GTIN|7:CAS|8:其他 |
台 |
无 |
无 |
13% |
0% |
100% |
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8486203130 [类注] |
[章注] |
[子目注释] |
[详情]
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制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用氟化氪（ KrF ）光刻机） |
0:品牌类型|1:出口享惠情况|2:用途|3:功能|4:品牌（中文或外文名称）|5:型号|6:GTIN|7:CAS|8:其他 |
台 |
无 |
无 |
13% |
0% |
100% |
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8486203190 [类注] |
[章注] |
[子目注释] |
[详情]
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其他制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机 |
0:品牌类型|1:出口享惠情况|2:用途|3:功能|4:品牌（中文或外文名称）|5:型号|6:GTIN|7:CAS|8:其他 |
台 |
无 |
无 |
13% |
0% |
100% |
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8486203910 [类注] |
[章注] |
[子目注释] |
[详情]
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制造半导体器件或集成电路用的 I 线光刻机（步进式除外） |
0:品牌类型|1:出口享惠情况|2:用途|3:功能|4:品牌（中文或外文名称）|5:型号|6:GTIN|7:CAS|8:其他 |
台 |
无 |
无 |
13% |
0% |
100% |
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8486203920 [类注] |
[章注] |
[子目注释] |
[详情]
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制造半导体器件或集成电路用的氟化氪（ KrF ）光刻机（步进式除外） |
0:品牌类型|1:出口享惠情况|2:用途|3:功能|4:品牌（中文或外文名称）|5:型号|6:GTIN|7:CAS|8:其他 |
台 |
无 |
无 |
13% |
0% |
100% |
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8486203930 [类注] |
[章注] |
[子目注释] |
[详情]
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制造半导体器件或集成电路用的氟化氩（ ArF ）光刻机（步进式除外） |
0:品牌类型|1:出口享惠情况|2:用途|3:功能|4:品牌（中文或外文名称）|5:型号|6:GTIN|7:CAS|8:其他 |
台 |
无 |
无 |
13% |
0% |
100% |
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8486203940 [类注] |
[章注] |
[子目注释] |
[详情]
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制造半导体器件或集成电路用的氟化氩浸没式（ ArFi ）光刻机（步进式除外） |
0:品牌类型|1:出口享惠情况|2:用途|3:功能|4:品牌（中文或外文名称）|5:型号|6:GTIN|7:CAS|8:其他 |
台 |
无 |
无 |
13% |
0% |
100% |
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8486203950 [类注] |
[章注] |
[子目注释] |
[详情]
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制造半导体器件或集成电路用的极紫外（ EUV ）光刻机（步进式除外） |
0:品牌类型|1:出口享惠情况|2:用途|3:功能|4:品牌（中文或外文名称）|5:型号|6:GTIN|7:CAS|8:其他 |
台 |
无 |
无 |
13% |
0% |
100% |
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8486203990 [类注] |
[章注] |
[子目注释] |
[详情]
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未列名制造半导体器件或集成电路用的光刻设备 |
0:品牌类型|1:出口享惠情况|2:用途|3:功能|4:品牌（中文或外文名称）|5:型号|6:GTIN|7:CAS|8:其他 |
台 |
无 |
无 |
13% |
0% |
100% |
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8486204100 [类注] |
[章注] |
[子目注释] |
[详情]
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制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 |
0:品牌类型|1:出口享惠情况|2:用途|3:功能|4:品牌（中文或外文名称）|5:型号|6:GTIN|7:CAS|8:其他 |
台 |
无 |
无 |
13% |
0% |
30% |
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8486204900 [类注] |
[章注] |
[子目注释] |
[详情]
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其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备 |
0:品牌类型|1:出口享惠情况|2:用途|3:功能|4:品牌（中文或外文名称）|5:型号|6:GTIN|7:CAS|8:其他 |
台 |
无 |
无 |
13% |
0% |
30% |
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8486205000 [类注] |
[章注] |
[子目注释] |
[详情]
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制造半导体器件或集成电路用离子注入机 |
0:品牌类型|1:出口享惠情况|2:用途|3:功能|4:品牌（中文或外文名称）|5:型号|6:GTIN|7:CAS|8:其他 |
台 |
无 |
无 |
13% |
0% |
11% |
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8486209000 [类注] |
[章注] |
[子目注释] |
[详情]
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其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 |
0:品牌类型|1:出口享惠情况|2:用途|3:功能|4:品牌（中文或外文名称）|5:型号|6:GTIN|7:CAS|8:其他 |
台 |
无 |
无 |
13% |
0% |
30% |
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